Mitsubishi: Neuer Rekord beim Zellwirkungsgrad

Eine wabenförmige Struktur auf der Zelloberfläche sorgt für geringe Reflexion und hohe Absorption des einfallenden Lichts. Durch eine Kombination von Lasermusterung und Nassbeizen gelang es, die gesamte Zelloberfläche mit der Wabenstruktur zu versehen. Außerdem haben die Entwickler den p-n-Übergang verbessert. Ein flacher, leicht dotierter n-layer lässt einen besseren Lichteinfall auf den p-n-Übergang zu.

Ferner verkleinerte Mitsubishi die vorderen Gitterelektroden. Dadurch konnte das Unternehmen die von den Elektroden resultierenden Verschattungsverluste um 25 % gegenüber herkömmlichen Zellen verringern. Die vorderen Metallelektroden der Zelle werden durch einen neuen Prozess direkt auf die Siliziumoberfläche gedruckt (Metallisierung).